在影像的過度曝光與失焦之間，是否也能找到一種視覺的詩意？嚴友亨以其獨特的繪畫語言，將這些常被視為「失敗」的影像特質轉譯為藝術創作，並在安卓藝術的Project Room推出個展「從光裡經過」，展期自8月16日至9月20日，展出藝術家近半年的最新創作。此次展覽不僅呈現他對影像與繪畫交融的深刻思考，也藉由熟悉場景的陌生化，帶領觀者進入靜謐且懷舊的視覺世界。
2001年出生的嚴友亨，現就讀於國立台灣藝術大學美術系碩士班。他的創作靈感源於一次底片相機的意外拍攝，過度曝光與失焦的影像效果讓他著迷，並成為創作的主軸。他認為這些被視為「失敗」的影像，反而能引領觀者進入陌生的視覺世界，並透過繪畫轉譯出新的感知層次。
展覽中的《橋樑之下》運用反光折射表現夏日的熱騰，簡化的幾何構圖搭配細膩的筆觸，營造出安靜且溫暖的情感氛圍，宛如記憶中某個片刻。《尋著光線的地方走》則描繪森林深處的微光灑落，以灰色調的光影塑造出懷舊且神秘的詩意。另一作品《ㄇ》透過象徵手法，將藤蔓植栽與光結合，灰色調中揉和微綠的光芒，展現藝術家細膩的情感層次。
安卓藝術成立於2010年，致力於推廣台灣及國際藝術家，並策劃具有啟發性的展覽項目。此次展覽不僅呈現嚴友亨的創作特色，也深化觀者對影像與繪畫交融的理解。展覽期間免費入場，更多資訊可至安卓藝術官方網站查詢。
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